ヘキサメチルジシラザン (HMDS) (CAS: 999-97-3)、アルカリ性シラン処理保護剤、詰め物の無機処理剤。 ヘキサメチルジシラザンはバルク有機ケイ素化合物であり、非常に有用なシラン化剤です。トリメチルシリル誘導体を調製するための試薬です。 HMDS はシリコン水、セルロースの表面をシラン化するのに使用できます。 HMDS は、走査型電子顕微鏡 (SEM) 用の生体材料の細胞を脱水するために使用することもできます。さまざまなナノ粒子上のヘキサメチルジシラザン コーティングにより、合成中の水の汚染や凝集に対する耐性が得られます。 HMDS は、シリカ粒子の形状、凝集体の形成、表面積、細孔サイズを制御するための改質剤としても使用できます。 HMDSは、フォトリソグラフィーにおけるフォトレジストの接着促進剤であり、熱分解ガスクロマトグラフィー質量分析においても、極性官能基を有する化合物の検出可能性を高めるために有用である。 触媒の存在下でアルコールまたはフェノールと反応して、トリメチルアルコキシシランまたはトリメチルアロキシシランを生成します。無水塩化水素と反応して NH3 または NH4Cl を放出し、トリメチルクロロシランを生成します。 有機溶媒に可溶で、空気と接触すると急速に加水分解されてトリメチルシラノールとヘキサメチルジシリルエーテルを形成します。 クロマトグラフィー支持体材料の不活性化。 ヘキサメチルジシラザンは、主にメチル シランのアルキル化 (アミカシン、ペニシリン、セファロスポリンおよび各種のペニシリン誘導体など)、抗生物質のヒドロキシル保護剤として使用されます。半導体産業における珪藻土の表面処理剤、ホワイトカーボンブラック、チタン、フォトレジストのブロンド添加剤として使用されています。耐引裂き強度の処理剤として使用されます。 HMDS は、有機合成および有機金属化学の溶媒として使用されます。 HMDS は、ヒドロキシ化合物からトリメチルシリルエーテルを調製するために使用されます。電子顕微鏡でのサンプル調製中の臨界点乾燥の代替として使用されます。ガスクロマトグラフィーでの熱分解中にシリル化された診断生成物を得るために分析物に添加されます。質量分析法。